美質疑ASML旗下EUV光刻機流入中國
更新時間：03:00 2026-06-20 HKT
發佈時間：03:00 2026-06-20 HKT
發佈時間：03:00 2026-06-20 HKT
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中美高科技博弈再度升級，美國商務部長盧特尼克（Howard Lutnick）於月前的一個會議中，質疑荷蘭半導體設備巨頭艾司摩爾（ASML）已把旗下最頂尖的極紫外線（EUV）光刻機，透過某種途徑流入中國，涉嫌違反美國主導的出口管制，令ASML陷入「危機模式」，亦令本已脆弱的美歐關係進一步承壓。
據知情人士透露，盧特尼克在4月的一場會議中，當面向ASML行政總裁富凱（Christophe Fouquet）等高層表達了對EUV光刻機流入中國的強烈擔憂。EUV系統是台積電（TSMC）等晶圓代工廠用來為蘋果及Nvidia製造尖端處理器的核心設備。早在特朗普第一任期時，美國已禁止ASML向中國出貨此類設備。
