美质疑ASML旗下EUV光刻机流入中国
更新时间：03:00 2026-06-20 HKT
发布时间：03:00 2026-06-20 HKT
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中美高科技博弈再度升级，美国商务部长卢特尼克（Howard Lutnick）于月前的一个会议中，质疑荷兰半导体设备巨头艾司摩尔（ASML）已把旗下最顶尖的极紫外线（EUV）光刻机，透过某种途径流入中国，涉嫌违反美国主导的出口管制，令ASML陷入「危机模式」，亦令本已脆弱的美欧关系进一步承压。
据知情人士透露，卢特尼克在4月的一场会议中，当面向ASML行政总裁富凯（Christophe Fouquet）等高层表达了对EUV光刻机流入中国的强烈担忧。EUV系统是台积电（TSMC）等晶圆代工厂用来为苹果及Nvidia制造尖端处理器的核心设备。早在特朗普第一任期时，美国已禁止ASML向中国出货此类设备。
