傳5部國產DUV光刻機年內交付晶片商

更新時間：03:00 2026-07-29 HKT
發佈時間：03:00 2026-07-29 HKT

光刻機是製作晶片核心線路的關鍵半導體設備，但受制於技術，中國企業一直依賴外企供應。不過美媒前日報道，上海一間企業已有能力今年生產約5部浸沒式深紫外光刻機（DUV），預計將交付給中芯國際等內地主要晶片製造商。
綜合彭博社及美國科技媒體The Information報道，一間總部位於上海的公司已開始製造DUV光刻機。報道未披露公司名稱，但稱該公司已從上海宇量昇科技等其他企業抽調人員，組建研發團隊。據悉國產DUV初期產量有限，預計今年生產約5部，明年產量約20部。
報道指，該突破或將挑戰半導體設備巨頭荷蘭阿斯麥（ASML）在中國市場的地位，近日阿斯麥股價跌至6月初以來最低。
挑戰阿斯麥在華市場地位
另外，內地科企「月之暗面」前晚發布AI新一代大模型Kimi K3的技術細節數據，允許全球開發者免費下載、微調並部署。外界認為，從這款AI的性能表現顯示，中國本土模型正快速縮小與OpenAI及Anthropic等美國行業領頭羊的差距。