传5部国产DUV光刻机年内交付晶片商

更新时间：03:00 2026-07-29 HKT
发布时间：03:00 2026-07-29 HKT

光刻机是制作晶片核心线路的关键半导体设备，但受制于技术，中国企业一直依赖外企供应。不过美媒前日报道，上海一间企业已有能力今年生产约5部浸没式深紫外光刻机（DUV），预计将交付给中芯国际等内地主要晶片制造商。
综合彭博社及美国科技媒体The Information报道，一间总部位于上海的公司已开始制造DUV光刻机。报道未披露公司名称，但称该公司已从上海宇量升科技等其他企业抽调人员，组建研发团队。据悉国产DUV初期产量有限，预计今年生产约5部，明年产量约20部。
报道指，该突破或将挑战半导体设备巨头荷兰阿斯麦（ASML）在中国市场的地位，近日阿斯麦股价跌至6月初以来最低。
挑战阿斯麦在华市场地位
另外，内地科企「月之暗面」前晚发布AI新一代大模型Kimi K3的技术细节数据，允许全球开发者免费下载、微调并部署。外界认为，从这款AI的性能表现显示，中国本土模型正快速缩小与OpenAI及Anthropic等美国行业领头羊的差距。